原理上，典型系統(tǒng)由光源、光學(xué)濾光組件、積分器及準(zhǔn)直鏡構(gòu)成。光源多采用氙燈或LED陣列，氙燈經(jīng)AM1.5G濾光片修正光譜后，通過(guò)光學(xué)積分器改善均勻性，再由準(zhǔn)直鏡控制光束發(fā)散角，最終在測(cè)試面形成接近標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)光的光斑。行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)將模擬器按光譜匹配、空間不均勻性、時(shí)間不穩(wěn)定性三項(xiàng)指標(biāo)劃分等級(jí)，三項(xiàng)均達(dá)要求方可滿(mǎn)足高精度測(cè)試需求。

　　常見(jiàn)誤差來(lái)源主要有三類(lèi)。光譜失配是最主要的系統(tǒng)誤差，模擬器光譜與標(biāo)準(zhǔn)光譜存在固有偏差，經(jīng)被測(cè)器件的光譜響應(yīng)耦合后，會(huì)直接扭曲短路電流測(cè)量值，需通過(guò)光譜失配因子校正。光強(qiáng)不均勻則導(dǎo)致大面積組件測(cè)試失真，測(cè)試面輻照度分布不均會(huì)使填充因子和效率偏離真實(shí)值，因此對(duì)大面積測(cè)試而言均勻性控制尤為關(guān)鍵。時(shí)間不穩(wěn)定性影響I-V掃描質(zhì)量，光源隨使用出現(xiàn)波動(dòng)會(huì)造成曲線(xiàn)畸變，尤其對(duì)存在光致退化效應(yīng)的新型器件干擾顯著。此外，參考電池校準(zhǔn)偏差與溫度控制誤差也會(huì)疊加進(jìn)總不確定度中。理解這些原理與誤差機(jī)制，是正確選用模擬器、合理解讀測(cè)試結(jié)果的前提。